PCE-44-LD 小型紫外臭氧清洗機，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別的清洗手段，特別適合清除一些有機化合物。紫外燈主要發出兩種波長的光：185nm和254nm.其中185nm的光可把空氣中的氧氣變為臭氧，254nm可以破壞化合物中的鍵

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更新時間：2025-02-17

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清洗系列

超聲波清洗機等離子清洗機臭氧清洗機

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PCE-44-LD是一款小型紫外臭氧清洗機，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別的清洗手段，特別適合清除一些有機化合物。紫外燈主要發出兩種波長的光：185nm和254nm.其中185nm的光可把空氣中的氧氣變為臭氧，254nm可以破壞化合物中的鍵（特別是碳碳鍵）。所以這兩種波長的光組合可有效地清除有機化合物。

技術參數
電源	● AC 208~240V，單相 50/60Hz
紫外燈	● 可發出雙波長的水銀燈 ● 功率：55W ● 發出光的波長：254nm 和185nm ● 使用壽命：2500 小時（可更換） ● 照射區域：100 x 100 mm ● 光照強度：4.6 mw/cm²
腔體 & 樣品臺	● 抽拉盒尺寸: 133 x 133x 25mm ● 支架尺寸: 100mmx 100mm x 19 ● 抽屜底座與紫外燈的距離：27mm ● 樣品臺與紫外燈的距離：8mm
應用	● 去除分子級別的污染物 ● 紫外光固化粘合劑 ● 紫外光催化 ● 氧化PDMS ● 表面消毒 ● 刻蝕 ● 清洗MEMS 器件 ● 清洗各種基片，如Si, Ge, GaAs和各種氧化物單晶基片
環境要求	● 僅室內使用; 海拔高度在5,562英尺以內 ● 溫度范圍41-104華氏度 ● 大相對濕度80％，大87華氏度，104華氏度線性降至50％相對濕度 ● 主電源波動不超過標稱電壓的10％ ● 污染等級2; 臭氧水平（環境）測量<45 ppb
外形尺寸	● 240mm200mm152mm
凈重	4Kg
認證	CE認證
質保期	● 一年保修，終身技術支持。特別提示：1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。 ● 點擊查看售后服務承諾書。
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